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PHI 硬X射線光電子能譜儀，下一代透明發(fā)光材料使用直徑約為10nm~50nm 的納米量子點(diǎn)(QDs)，結(jié)合使用 XPS(Al Ka X射線)和 HAXPES(Cr Ka x射線)對同一微觀特征區(qū)域進(jìn)行分析，可以對 QDs 進(jìn)行詳細(xì)的深度結(jié)構(gòu)分析。

PHI X射線光電子能譜儀 提供了一種全新的用戶體驗(yàn)，儀器高性能、全自動化、簡單易操作。 操作界面可在同一個屏幕內(nèi)設(shè)置常規(guī)和高級的多功能測試參數(shù)，同時保留諸如進(jìn)樣照片導(dǎo)航和 SXI 二次電子影像精細(xì)定位等功能。